第(2/3)页 塞维斯点点头,“这些要快,对江成的关注评级再提升一个等级,要安排专人队伍时刻掌握其行踪、公司发展方向和进展。” “另外,还要让我们的人进入到他的公司,争取做到中高层以上。” 大卫叹了口气,道,“现在很难,华国安全部门对枫火公司关注得很,他们公司的保密要求也很严格,我们的人都不敢轻易动。” “那就要找机会。我们有时间。”塞维斯静静地道。 “明白。” ----o(o?`з?′o)?!!!--- 阿斯麦耳公司,戴拿正和莫斯特交代此次去华国诉讼的相关注意事项。 “这次既然有米国高层撑腰,别的我们不管,我们自己要去看看对方的光刻机,是不是抄袭和侵犯我们的专利。” 莫斯特不在意地道,“放心,除了我们的诉讼团队,米国还有团队专门和华国高层商议光刻机侵犯专利的事情,一定可以让我们进入到魔都微电子调查一番。” “不能掉以轻心,华国一向强硬,不会那么轻松让我们如愿的。”戴拿总裁摇摇头,心头却是仍有忧虑。 他不知道这个举动是好是坏。 对于阿斯麦耳来说,euv光刻机是最领先的,只要这个不被突破,他最后的底线还在。 当然,就目前来说,duv浸没式光刻机是销量的主流,如果华国的光刻机只在华国销售的话,那倒没有什么大问题,不会影响太大。 莫斯特道,“亚洲市场负责人梁永兵报告说,枫火半导体已经使用了魔都微的光刻机,目前的芯片良率达到了95%以上,32nm工艺。” 随后又道,“现在我们不确定的是,他们是否会用多重曝光和finfet技术,如果这两项技术他们掌握了,很快他们就可以进入28nm以内的更高制程。” 戴拿忧心地道,“他们已经有了浸没式光刻机,一定能够深入更高制程的,这是毋庸置疑的,无非就是时间的长短而已。” “所以,留给我们的时间不多了。” “但,如果他们的光刻机真的规避了我们的专利,又该如何是好?”戴拿又问道。 duv光刻机的不少专利,还在保护期限内,大都是2003至2010年左右申请的。 发明专利保护期限是20年。 第(2/3)页