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    “华国么，他们一向是什么产业都要自己做。”戴拿哂笑一声，“但他们不知道，光刻机是半导体工业皇冠上的明珠，是需要投入无穷无尽的金钱才可能成功的。”

    “戴拿先生，您要知道，自2010年以后，华国已经是世界第二经济体了，以他们庞大的体量，是有足够多的钱搞光刻机研发的。”负责人继续提醒道。

    “不，浸没式光刻机，我相信他们或许在五六年后可以制造出来，但euv光刻机，哪怕是给他们图纸，他们也造不出来。”戴拿摇头笑道。

    “……”

    euv光刻机，真的这么恐怖么？ъìqυgΕtv.℃ǒΜ

    其他人可能不知道，但戴拿清楚。

    那真的已经是人类智慧的极限了。

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    且不提外面互联网上的纷纷扰扰，华国光科技产业联盟成立以后，下午就开始了交流探讨。

    每一家会员企业都有权利和机会上台做汇报，宣传自己目前的研究成果，就相关问题困难坦诚交流，为推进光刻机产业进行深入探讨。

    今天下午首先在台上汇报的便是魔都微电子的贺明。

    “各位领导、企业家朋友们，我是魔都微电子董事长兼ceo的贺明，首先非常感谢大家的信任，将我选为联盟主席团副主席，在此，我郑重承诺，全力支持和配合光刻机产业联盟事业，力争在最短的时间内实现28nm工艺的ic前道制造光刻机的成功研发。”

    随后，贺明在ppt汇报中，就企业目前研发的产品进行了宣传。

    包括刚研发成功的90nm分辨率的前道制造光刻机，采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术。

    目前，国内仅有一间fab企业采用这么一款。

    据说也是不是特别成熟，良品率对比阿斯麦耳的二手老旧光刻机都比不了。

    此外，还有封装光刻机，可达到40/50nm的制程，研发成功之后，迫使国外相关类型的光刻机降价了1/3以上。

    而后，在问题方面，贺明哭起了穷。

    “……研发先进制程的前道光刻机一直是我们公司的努力方向，但目前来说，由于研发成本极高，28nm工艺的浸没式光刻机整机需要的重要部件仍然未研发出来，影响了我们的下一步的整机研发……”

    ……

    在汇报之后，便是直接的讨论和提问。

    “请问贺总，贵公司的28nm前道制造光刻机是否已经立项，预计需要多少资金研发？”

    贺明拿着话筒回道，“目前已经立项，预计需要研发资金100亿以上，而且需要看各重要部件供应商的产品研发情况。”
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