第130章 接近式曝光光刻机-《科技最巅峰》
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自己国家差不多就是963万平方公里,差不多一个大国土地的百分之三了……
不敢想象!
看见王昊天沉默了,王小芳更加得意了:“这算什么???”
“这还是duv光刻机呢,要是换做了euv光刻机,那要求更高,如果把我制作的镜片放大到三十万平方公里这么大,整块的镜片表面的平整误差不会超过一厘米!”
“一厘米……”王昊天喃喃地说道。
“以你们这个星球的水平能做到这种程度的也就仅仅德意志国家的蔡司公司能做到罢了。”王小芳已经不是一个一个国家的贬低了,现在直接开口你们星球,你们星球了……
赤果果的歧视啦。
“对于显微镜,我这边一共安装了两套,就是为了提高精准度!”
“至于工作台,光刻机可以说有三个工作台,一个工作台是放置掩膜的,一个工作台是放置涂有光刻胶的硅圆片的,另一个工作台就是放置成品的,也是放置硅片,也就是检测台,为了检测芯片的性能!”
“相比较而言,前两个工作台在整个生产芯片的环节之中占有非常重要的位置!”
“就是这两个平台可以分为两种,一种是相对静止,这种的需要在掩膜上刻下所有的芯片线路图,在光束照耀下光刻胶上就会刻下线路图,不过这样有一个缺点,那就是受光面积太大,使得光比较分散,影响成品率。”
“另一种就是两个平台相对运动,光束随着掩膜平台运动,这样使得光束聚光好,形成了线路图效果好,成品率高,但是……对机械精密度要求极高!”
“以我们的duv光刻机,误差能做到10纳米,这已经够用了,要是euv光刻机,那就要求高了,误差必须在2纳米以下,而且两个工作台的加速度必须达到炮弹发射时的加速度,此外对温度变化也有过分到变态的要求,温度上下浮动不能超过千分之一!”
“我们这一台duv光刻机选择的是两个平台相对运动的,这样精度更高!”
“至于掩膜和硅圆片的相对位置进行曝光也可以分为以下三大种。”
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