第129章 DUV光刻机-《科技最巅峰》


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    在王昊天的眼前,有一个白色的大壳子,上边打着智慧殿堂的标志,现在智慧殿堂的logo已经确认了,就是一个仿古的有菱角的殿堂!

    这就是小芳制作出来的光刻机。

    看见王昊天专注的眼神,小芳略微有些得意:“我已经按照你的吩咐尽可能地降低配置了。”

    说到这里小芳情不自禁地瞥了一下嘴巴:“你们星球上的科技真的是低!”

    “首先是激光发射器,因为是制作45纳米的光刻机,不能用可见光,也不能用紫外光,我们采用的是深紫外光,也就是所谓的duv!”

    “准确的说是arf准分子激光,这种光的波长虽然是193纳米,但是可以等效为134纳米。”

    “就算是duv光刻机,也是可以分为两种的,一种是干分式的,另一种就是液浸式的,我们这一台选择的是浸透式的,浸透式的光刻机在理论上在制造芯片的时候经过多重曝光之后工艺可以达到惊人的7纳米!”

    “但是几乎没有人才有duv光刻机生产7纳米的芯片,因为每多增加一次曝光,那么生产芯片的难度增加,良品率也不能有效的保证,种种因素结合在一起,就导致了成本大大增加!”

    根本就不划算!

    商人以追逐利益为目标,这和本心背道而驰!

    自然不会有人采用!

    除非出发点不是为了赚取利润!

    “所以根据我们的实际情况,只要制造的芯片在于10纳米以下,那么我们就必须要考虑极紫外光了,也就是所谓的euv光刻机。”

    “不过……”说到这里,小芳撇了撇嘴巴:“以我们的光刻机进展速度,距离制造euv光刻机最起码还需要三年呢!”

    听后王昊天点了点头,现在他的目标就是制造45纳米的光刻机,现在上城微电子设备公司已经可以可以量产90纳米的光刻机了。

    从90纳米的光刻机提升到62纳米的光刻机难道是不大的,可以这么说,从90纳米提升精度,只要不到45纳米都是比较容易做到的,一直到45纳米这是一个技术关卡!

    至于45纳米之后还有28纳米的,26纳米的,22纳米的……一直到10纳米,7纳米,5纳米等等……
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